반도체 도핑 원리: N형·P형 전도성을 불순물로 조절하는 법
도핑은 실리콘 결정에 극미량의 원자를 넣어 전자 또는 정공의 농도를 조절하는 기술입니다. N형·P형은 전하의 부호가 아니라 다수 운반자의 종류를 뜻하며, 농도뿐 아니라 이동도·활성화율·접합 구조가 소자 성능을 결정합니다.
도핑은 실리콘 결정에 극미량의 원자를 넣어 전자 또는 정공의 농도를 조절하는 기술입니다. N형·P형은 전하의 부호가 아니라 다수 운반자의 종류를 뜻하며, 농도뿐 아니라 이동도·활성화율·접합 구조가 소자 성능을 결정합니다.